制藥純水設(shè)備遵循模塊化設(shè)計(jì)理念,以預(yù)處理、氧化消毒、多介質(zhì)過濾、RO反滲透、UV消毒、EDI連續(xù)去離子和儲(chǔ)存外輸?shù)裙δ軉卧獮榛A(chǔ),在設(shè)計(jì)、制造、調(diào)試過程中將萊特萊德水處理先進(jìn)的技術(shù)、的工藝和嚴(yán)格的質(zhì)量控制貫徹到每個(gè)功能單元;zui終產(chǎn)水裝置根據(jù)其用水標(biāo)準(zhǔn)的不同,經(jīng)由各功能模塊優(yōu)化組合而成,從而保證了整個(gè)系統(tǒng)的高性能與高質(zhì)量,使產(chǎn)成水*達(dá)到或超過純化水和注射用水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn).

　　制藥純水設(shè)備裝置的要求

　　1、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)應(yīng)簡(jiǎn)單、可靠、拆裝簡(jiǎn)便.

　　2、為便于拆裝、更換、清洗零件,執(zhí)行機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)盡量采用的標(biāo)準(zhǔn)化、通用化、系統(tǒng)化零部件.

　　3、設(shè)備內(nèi)外壁表面,要求光滑平整、*,容易清洗、滅菌.零件表面應(yīng)做鍍鉻等表面處理,以耐腐蝕,防止生銹.設(shè)備外面避免用油漆,以防剝落.

　　4、制備超純水設(shè)備應(yīng)采用低碳不銹鋼或其他經(jīng)驗(yàn)證不污染水質(zhì)的材料.制備純化水的設(shè)備應(yīng)定期清洗,并對(duì)清洗效果驗(yàn)證.

　　5、注射用水接觸的材料必須是低碳不銹鋼(例如316L不銹鋼)或其他經(jīng)驗(yàn)證不對(duì)水質(zhì)產(chǎn)生污染的材料.制備注射用水的設(shè)備應(yīng)定期清洗,并對(duì)清洗效果驗(yàn)證.

　　6、純化水儲(chǔ)存周期不宜大于24小時(shí),其儲(chǔ)罐宜采用不銹鋼材料或經(jīng)驗(yàn)證無(wú)毒,耐腐蝕,不滲出污染離子的其他材料制作.保護(hù)其通氣口應(yīng)安裝不脫落纖維的疏水性除菌濾器.儲(chǔ)罐內(nèi)壁應(yīng)光滑,接管和焊縫不應(yīng)有死角和沙眼.應(yīng)采用不會(huì)形成滯水污染的顯示液面、溫度壓力等參數(shù)的傳感器.對(duì)儲(chǔ)罐要定期清洗、消毒滅菌,并對(duì)清洗、滅菌效果驗(yàn)證.

　　制藥純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

　　電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗;

　　電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水;

　　黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水;

　　生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;

　　晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片;

　　集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片;

　　半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;

　　半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗;

　　高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn);

　　汽車、家電表面拋光處理等;